半导体洁净车间

场所：半导体洁净车间工艺产线、纯水 / 化学品输送管路、晶圆清洗台、废液收集区等核心区域。

需求：实时监测酸碱液、有机溶剂、超纯水等介质泄漏，快速定位漏点，避免污染洁净环境、损坏精密设备。

痛点：车间空间密闭、漏液量初期极小易忽视，人工巡检滞后，漏液易腐蚀产线、造成晶圆报废，且洁净区污染后恢复成本高。

价值：毫秒级感应漏液并报警，精准定位漏点，减少人工巡检成本；从源头阻断漏液扩散，保护洁净环境和精密设备，降低生产损耗，保障产线连续稳定运行，规避洁净区污染带来的高额恢复费用。